2010年4月7日,湖北省科技厅在武汉主持召开了由武汉三工光电设备制造有限公司完成的“SEF－G5太阳能光伏激光刻膜机”项目鉴定会。华中科技大学光电学院副院长、武汉中国光谷激光行业协会会长朱晓教授担任鉴定委员会主任委员，武汉大学物理科学与技术学院汪国平教授任鉴定委员会副主任委员。朱晓主持了项目鉴定，与会专家听取了武汉三工光电设备制造有限公司总经理何成鹏所作的工作报告和技术报告，审阅了相关技术资料，并观看了“SEF-G5太阳能光伏激光刻膜机”现场演示。
专家们认为，SEF-G5激光刻膜机重点解决如下关键技术，采用全封闭式结构，膜面朝上运行，与流水生产线匹配，自动进出料，并采用大面积非接触式气浮平台支撑，实现了无摩擦支撑下的高速平稳运行。采用综合除尘技术，包括定点除尘、随动除尘、旋流除尘、静电除尘、集尘过滤技术。采用独特的四光路同步输出方式，功率输出稳定，保证了切割的均匀性，并采用CCD摄像和微位移制动的自动识别跟踪定位系统，提高了系统的刻膜精度，并取得实用新型专利5项。
“SEF－G5太阳能光伏激光刻膜机”达到了项目的既定指标，填补了国内高端激光刻膜机产品的空白，部分指标达到国际先进水平，具有自主知识产权，已在国内推广使用，替代进口，获得了良好的经济效益和社会效益，具有很好的市场应用前景。
