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伯东企业(上海)有限公司

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 伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备 VO2 薄膜

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 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 制备高性能光通信带通滤光膜

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 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射制备 MnGe 量子点

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 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP380 溅射镀制 TC4 表面 TiN 涂层

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 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射制备 LaF3 薄膜

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 KRI 考夫曼聚焦射频离子源 RFICP380 辅助制备原子探针样品

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 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于制作闪耀罗兰光栅

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 hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于氮化硅刻蚀工艺研究

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 hakuto 离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究

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 KRI RFICP325 离子源已成功应用在塑料光学镜头应用

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 hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板

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 hakuto 离子刻蚀机 20IBE 刻蚀滤波器钽酸锂晶片

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 hakuto 离子刻蚀机 10IBE 用于多晶黑硅损伤去除与钝化性能研究

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 hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于芯片制造中厚铝刻蚀

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 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 运用于铁电薄膜研究

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 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 用于蚀刻 KDP 晶体

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 Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100用于蚀刻覆铜板

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 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J  用于光学器件精密加工

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 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于芯片去层

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 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE 去除印刷电路板污染物

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