MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)
是生长高质量半导体薄膜材料的
技术，在LED、半导体激光器、太阳能电池等多个领域都有应用。现有MOCVD设备
的成本非常高，且完全依赖进口，进行MOCVD设备研究对国内半导体产业、新能源
领域以及国防高端技术的发展都很有必要。
MOCVD设备可以分为核心的腔体反应室、加热器、冷却系统、气体输运系统以
及整体控制系统。本文重点研究了气体输运系统的设计，包括结构组成和部分控制难
点，并对该系统今后的发展陈述了自己的观点。
气体输运系统的作用是把包括载气和源气在内的所有气体输送至腔体参与反应，
并把反应后的气体输送至排气管路进行尾气处理。气体输运包括源供给系统，
反应室内多余的气体带入尾气处理系统。由于腔体内管路很复杂，而且避免MO源的壁面沉积
)对气体流经的关键管路持续吹扫。基于安全考虑，设备需
要定期进行泄漏检查。
由于MOCVD系统中所采用的大多数源均易燃易爆，雨其中的氢化物源又有剧毒，因此，必须对反应过后的尾气进行处理。通常采用的处理方式是将尾气先通过微粒过滤器去除其中的微粒
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