产品参数 | |||
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品牌 | 新思 | ||
产品特性 | 导电性 | ||
驱动芯片类型 | 液晶屏驱动 | ||
针脚数 | 12 | ||
封装 | 真空封装 | ||
系列 | 液晶驱动IC | ||
功率 | 1kW | ||
批号 | 2010及以前、2021 | ||
特色服务 | 公道 | ||
产品说明 | 半导体集成电路 | ||
包装 | 真空封装 | ||
应用领域 | 3C数码 | ||
驱动AC180V | 10.2W | ||
驱动AC220V | 10.4W | ||
驱动AC265V | 10.3W | ||
可售卖地 | 全国 | ||
用途 | 手机 | ||
类型 | 驱动IC | ||
型号 | TD4322 |
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驱动IC在一些非挥发性存储器如相变存储器(Phase-Change Memory;PCM)、磁阻存储器(Magneto Resistive Memory;M-RAM)、电阻存储器(Resistive Memory;RRAM)等技术已蓄势待发、即将迈向商业量产门槛之际,DDR4将可能是末代的DDR存储器,届时电脑与软体结构将会出现极为剧烈的变动。
NAND Flash逼近制程物理极限 以3D提升容量密度
以浮闸式(Floating Gate)半导体电路所设计的NAND Flash非挥发性存储器,随着Flash制程技术不断进化、单位容量 不断下降的情况下,已经在智慧手机、嵌入式装置与工控应用上大量普及。
Micron自家市场统计预测指出,从2012到2016年总体NAND Flash容量应用的年复合成长率可达51。2013年,美光(Micron)与SK Hynix两家晶圆厂,先后发表16nm制程的NAND Flash存储器技术,而东芝(Toshiba)则在2014年直接跨入15nm制程,并推出相关NAND Flash存储器芯片产品。
NAND Flash传输速率,从2010年ONFI 2.0的133MB/s,eMMC v4.41的104MB/s;到2011年ONFI v2.2/Toggle 1.0规格,传输速率提升到200MB/s,eMMC v4.5拉高到200MB/s,UFS 1.0传输速率为2.9Gbps;2012年ONFI v3.0/Toggle v1.5提升到400MB/s,UFS v2.0传输速率倍增为5.8Gbps;预估到2015年,ONFI v4.x/Toggle v2.xx规格定义的传输速率增到800MB/s、1.6GB/s。
随着NAND Flash制程进步与线路宽度与间距的微缩,连带影响到抹写次数(P/E Cycles)的缩减。SLC存储器从3x纳米制程的100,000次P/E Cycles、4个ECC bit到2x纳米制程降为60,000 P/E、ECC 24bit。MLC从早期5x纳米制程10,000 P/E、ECC 8bit,到2x/2y纳米制程时已降为3,000 P/E、24~40个ECC bit。
有厂商提出,eSLC、iSLC的存储器解决方案,以运用既有的 的MLC存储器,在单一细胞电路单元使用SLC读写技术(只储存单一位元的电荷值),抹写 度提升到30,000次P/E, 虽比MLC高,但 远优于SLC,可应用在IPC/Kiosk/POS系统、嵌入式系统、伺服器主机板以及薄型终端机等。