二手双面抛光机\/平磨机13B\/15B\/16B\/28B

双面抛光机原理图

销售技术：杨经理 18103045976

1、双面抛光机工作原理:本研磨机为准确研磨设备,被研磨产品放置于研磨盘上,研磨盘逆时钟旋转,工件自己转动,用重力加压的方式对工件施压,工件与研磨盘作相对旋转磨擦,来达到研磨目的.修盘机采用油压悬浮导轨,配合金刚石修面刀对研磨盘进行准确修整,使研磨盘得到准确的平面度.镜面抛光机的抛光步骤将被抛光工件用夹具固定在镜面抛光机上,开动电机,在控制面板设定程序步骤和工件所需要达到的精度,磨盘的转速等等开启抛光液装置,使得液体顺利流出,设定时间即可.时间到了后,程序会自动关闭,关掉电源.相关概念工件工件，即机械加工中的加工对象。它可以是单个零件﹐也可以是固定在一起的几个零件的组合体，也叫制件、作件、课件、五金件等。抛光
2、本文研制的双面抛光机在总结了国内外双面抛光机设备的基础上,根据国内的加工技术水平,对机械结构进行优化设计和研究,实现表面粗糙度小于1nm的超平滑表面加工生产的目标,达到国外同类产品的技术精度要求。
3、图1双面抛光机抛光过程的原理2双面研磨抛光机改进设计传统抛光机的不足：传统的研磨抛光机采用一电机，两电机驱动，这类型的抛光机可适用的调速范围存在一定局限性，配比繁琐，无法满足不同的工艺需要。传统的双面研磨抛光设备，齿圈及太阳轮均采用整体式齿轮，随着设备规格的加大，零件的尺寸也在加大，齿圈的加工难度加大；同时在使用过程中，会出现齿的磨损，更换则需要整体更换，用户的使用成本加大；在抛光过程中，抛光液会在齿轮齿部结构，不易清理。传统的双面研磨抛光设备，对于研磨抛光盘均采用被动式的冷却方式，通过研磨砂抛光液带走抛光过程中产生的热量。对于连续工作的设备来说不能起到良好的降温作用及的温度控制。而温度变化会引起抛盘的变形，对工件的平整度会造成严重影响。
4、超精密双面抛光的运动原理双面抛光机整个运动机构可看成为一个差动式的行星轮系。其结构简如图2-2(a>所示。四个伺服电动机通过带传动分别带动四根主轴转动后，中心轮、外齿圈、上抛光盘以及下抛光盘分别以设定的角速度进行转动。
5、VDOMDHTMLtml>.抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作原理是：电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。

双面抛光机原理图解

1、摘要：精密双面抛光机可对光学元件的两个表面同时进行抛光,能有效提高元件加工效率。双面抛光机实现精密加工的关键因素在于抛光盘转速的控制。
2、双面抛光机是采用双盘对磨，在砂带表面形成一层极薄的研磨液膜，从而起到提高砂带使用寿命的作用。
3、在化学成膜与机械去膜的交替过程中，通过化学与机械的共同作用从工件表面去除极薄的一层材料，最终实现超精密表面加工。两个过程的快慢综合和一致性影响着工件的抛光速度和抛光质量。抛光速度主要由这两个过程中速度较慢的过程所控制。

双面抛光机

1、本标准规定了DPM型双面抛光机(以下简称“抛光机”)的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存。本标准适用于采用化学机械抛光方式对半导体级单晶硅片进行双面精密抛光的DPM型双面抛光机。2规范性引用标准下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。
2、双面抛光机本机主要用于硅片、片、陶瓷片、石英晶体及其它半导体材料的双面高精度研磨或抛光，也适用于其它金属、非金属、光学玻璃、蓝宝石等硬、脆、薄材料的双面高精度研磨或抛光。产品详情设备简介：本机主要用于硅片、片、陶瓷片、石英晶体及其它半导体材料的双面高精度研磨或抛光，也适用于其它金属、非金属、光学玻璃、蓝宝石等硬、脆、薄材料的双面高精度研磨或抛光。设备特点：机身结构优化设计，机架采用龙门式结构，刚性好，承压能力强，能满足高负载下高速稳定运行。下盘、上盘和太阳轮分别由电机单独驱动，电机均采用变频电机且使用变频调速器控制，能在有效设置范围内以任意速度工作，实现平稳的停止、加速、减速及换向，能有效的防止薄脆工件破碎。
3、UNIPOL-160D双面研磨抛光机主要用于石英晶片、蓝宝石、陶瓷、玻璃、金属等片状材料的双面精密研磨抛光。本机采用涡轮蜗杆减速机为传动机构，通过齿轮组实现上、中、下三轴不同速度、不同方向的转动，使上、下研磨抛光盘和中间太阳轮产生速度差以及相对运动，而样件置于太阳轮驱动的载样行星齿轮内孔中，从而对其进行双面研磨抛光。UNIPOL-160D双面研磨抛光机可以选择用研磨盘加磨料研磨样品，也可以选择抛光盘贴砂纸的方式研磨样品。抛光盘贴砂纸是将砂纸贴在研抛底片上然后将研抛底片吸附在抛光盘上在进行研磨抛光。可以同时对多个样品一起进行研磨，研磨抛光的效率高，适合大量试样的研磨或工厂的小批量生产。免责声明：本站产品介绍内容（包括产品图片、产品描述、技术参数等），仅供参考。
4、双面抛光技术是在单面抛光加工技术的基础上发展起来的，由于它在薄片工件的加工过程中能有效地避免应力差与粘结误差引起的变形问题。因此与单面抛光加工相比，双面抛光具有加工效率高，表面变形小，易获得超光滑加工表面的优点。一般的超精密双面抛光系统是由承载工件和下抛光盘的工作台、施加载荷的上抛光盘、带动工件旋转运动的行星轮以及供给抛光液的装置四大构件组成，系统构造如图所示。在双面抛光的过程中，由于抛光液与抛光垫之间的物理运动，导致抛光液内部的化学溶液以及磨粒于工件产生化学变化，同时在上抛光盘对工件的旋转压力的作用下，使工件表面产生的化学反应物得到切除。
5、高精密双面研磨抛光机.产品简介:高精密双面研磨抛光机广泛应用于电子、微电子、光学、汽车、航空、航天 液压、机械和精密钟表等双面加工领域。

光学双面抛光机

1、本机器主要用于硅片、片、陶瓷片、石英晶体及其他半导体材料的双面高精度研磨或抛光，也适用于其他金属、非金属、光学玻璃、蓝宝石等硬、脆、薄材料的双面高精度研磨或抛光。

双面抛光机使用说明书

1、本标准规定了DPM型双面抛光机（以下简称“抛光机”）的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存。本标准适用于采用化学机械抛光方式对半导体级单晶硅片进行双面精密抛光的DPM型双面抛光机。
2、使用说明书电动抛光机28型双重绝缘警告为了您的安全请妥善保存该手册以备将来参考使用之前请仔细阅读本手册规格生产者保留变更规格不另行通知之权利规格可能因销往国家之不同而异重量符合EPTA-Procedure01/2003符号以下显示本工具使用的符号在使用工具之前请确保理解其含义请阅读使用说明书双重绝缘佩带安全眼镜佩带耳罩仅用于欧洲国家请勿将电气设备与家庭普通废弃物一同丢弃请务必遵守欧洲Directive2002/96/EC关于废弃电子电气设备的指令根据法律法规执行达到使用寿命的电气设备必须分类回收至符合环境保护的再循环机构一般安全规则)