一、产品名称概述：
石墨烯光催化浆料胶体磨,石墨烯光触媒胶体磨,石墨烯二氧化钛复合胶体磨,石墨烯浆料胶体磨,二氧化钛浆料胶体磨
二、石墨烯光催化的发展：
近年来，光催化还原二氧化碳生成碳氢化合物技术应运而生，该技术既利用了可再生的太阳资源，又可以将工厂和汽车等排放的二氧化碳收集并还原为化学燃料而加以利用。该光催化过程所使用的半导体n型光催化材料在太阳光的激发下产生光生载流子，诱发催化剂催化还原二氧化碳和水合成可利用的碳氢燃料。
石墨烯由于其独特的单层二维结构、优良的导电性能巨大的比表面积、独特的半整数霍尔效应、独特的量子隧道效应以及双极电场效应等一系列特性，特别是优良的导电性能和巨大的比表面积能很好的改善一般半导体材料可见光利用率低和激发电子-空穴复合概率高等问题，为解决光催化反应中的瓶颈问题提供了可行途径。
那么石墨烯是如何化繁为简、化腐朽为神奇的呢？其实是因为其优异的导电性，大的比表面积和结构的灵活性，即使在非常低的重量分数下，石墨烯也可以作为有效的电子传导网络，特别有希望提高光催化性能。此外，科学研究表明，常规的光催化材料可通过与石墨烯复合而改变禁带宽度（半导体材料价带与导带之间的距离），为电子的移转和跃迁创造有利条件，这也是石墨烯具有强大催化作用的原因。
近来表明，单纯的石墨烯也能作为光催化剂直接参与催化反应，因此用石墨或氧化石墨烯改性纳米材料也被认为在光催化领域具有重要价值。
三、石墨烯光催化复合浆料：
为了优化光催化材料，可将石墨烯和传统光催化剂相复合，与水为介质，混合分散，均匀分散后将石墨烯填充从而来改性和优化光催化剂的性能。但由于石墨烯和传统光催化剂都需要很好的分散，复合后对于研磨分散的要求更高，一般国产低速的胶体磨已经难以达到分散效果，结合多家环保企业案例，推荐GMSD2000系列改良型胶体磨进行石墨烯光催化复合浆料的研磨与分散，效果好，效率高。
四、SGN高剪切胶体磨的特点及应用：
1、高剪切胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。
2、上海思峻的高速胶体磨设备在经过了大量的数据研究、计算分析、实践验证与反复优化改进后，现在的乳化设备已经拥有一套科学合理的技术参数，不论是在膏霜乳液、食品酱料、药膏药剂产品的生产中，还是在新兴的新材料、石油、树脂等领域都有***的表现!欢迎各界人士朋友前来我司考察指导!
3、SGN胶体磨通过与发动机连接的均质头的高速旋转，对物料进行剪切，分散，撞击。这样物料就会变得更加细腻，促使油水相融。
4、SGN高剪切胶体磨采用***的零部件，并倾尽全力将其优化组合，制成各方面都卓然出众的艺术级工业化产品。这需要多年的经验积累，以及技术沉淀，更是将经验和技术转化为创新的能力。
5、SGN 纳米胶体磨是根据市场上纳米级物料难以分散的难题改善的一款超高速胶体磨，比普通的胶体磨的转速高出7-8倍，高转速21000rpm，已***应用于纳米级白炭黑的分散、纳米级石墨烯的分散、纳米级金属氧化物等的分散。
五、GMS2000系列高剪切胶体磨型号表：
|
型号 |
流量L/H |
转速rpm |
线速度m/s |
功率kw |
入/出口连接DN |
|
GMS2000/4 |
300 |
18000 |
51 |
4 |
DN25/DN15 |
|
GMS2000/5 |
1000 |
14000 |
51 |
11 |
DN40/DN32 |
|
GMS2000/10 |
2000 |
9200 |
51 |
22 |
DN80/DN65 |
|
GMS2000/20 |
5000 |
2850 |
51 |
37 |
DN80/DN65 |
|
GMS2000/30 |
8000 |
1420 |
51 |
55 |
DN150/DN125 |
石墨烯光催化浆料胶体磨,石墨烯光触媒胶体磨,石墨烯二氧化钛复合胶体磨,石墨烯浆料胶体磨,二氧化钛浆料胶体磨
