离子溅射仪
IS12/IS13离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。
IS12Ⅲ三靶离子溅射仪最大特别之处是：三靶设计。通过旋转样品台可以依次在样品上溅射不同的材料，而无需破坏真空条件进行靶材更换。适用于实验室的各种复合膜样品制备，及非导体材料实验电极制作。
特点：
1、配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态；
2、溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得最佳镀膜效果；
3、特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；
4、陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用；
5、根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。
规格：
IS12/IS13离子溅射仪 IS12Ⅲ三靶离子溅射仪 靶（上部电极） 金： 金靶： 直径： 直径： 银靶： 直径： 厚度： 铜靶： 直径： 真空样品室 直径： 溅射面积 Ф Ф 真空指示表 最高真空度：≤ 4×10-2 mbar 离子电流表 最大电流：50mA 微型真空气阀 可连接φ 可通入气体 多种 最高电压 -1600/-3000 DCV -1600DCV 机械泵
