离子源类型虽多, 目的却无非在线清洗, 改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量. 离子源可以大大改善膜与基体的结合强度, 同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善. 若是镀工具耐磨层, 一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高, 可采用离子电流较大能级也较高的离子源, 如霍尔离子源或阳极层离子源.
为了保证镀灯具铝膜的质量, 提高生产率. 经过我司推荐采用大尺寸KRI 考夫曼离子源 EH 5500 安装于生产设备 2050 mm 蒸镀机中, 实现 LED-DBR 离子辅助镀膜, 大大提高了镀膜质量和提高生产率.
霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化. 这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束. 由于轴向磁场的作用太强, 霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流. 常见的中和源就是钨丝（阴极）.
霍尔离子源的特点是：
1简单耐用.
2离子电流与气体流量几乎成比例, 可获得较大离子电流.
3钨丝一般横跨在出口, 收离子束冲击很快会销蚀, 尤其对反应气体, 一般十几个小时就需更换. 并且钨丝还会有一定的污染. 为解决钨丝的缺点. 有采用较长寿中和器的, 如一个小的空心阴极源.
KRI 考夫曼离子源客户案例: 国内某知名灯具制造商
1. 离子源应用: 镀灯具铝膜.
2. 系统功能: 2050 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.
3. 离子源: 采用美国KRI 考夫曼离子源 KRi EH 5500. 离子源 EH 5500 提供的离子束 (不论是离子能量还是离子密度) 均是目前业界最高等级, 离子源 EH 5500 大尺寸的离子枪本体设计所产生超广角的离子束涵盖面积及高均匀度的离子浓度分布可以涵盖 2050 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 (substrate holder), 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能.
4. 离子源功能: 通过 KRI EH 5500 霍尔源实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的灯具无论是环境脱膜测试, 耐刮测试, 膜层应力测试等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.
EH 5500 离子源本体
EH 5500 离子源控制器
上海伯东是美国KRI 考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc 中国总代理. 美国KRI 考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. KRI 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. KRI 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式KRI 考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式KRI 考夫曼离子源.
