uv光催化氧化废气处理设备废气uv光氧催化设备主要是利用高能高臭氧UV紫外线光束作为催化反应条件来进行有机废气处理，而应用于工业有机废气处理中的紫外线波长为154-254nm，波长越短能量越大。在这个波长区域中，由于154-185nm的波长相对较短所以有机废气处理反应的空间范围也较小，而184-254nm尽管能量较小，但波长长有机废气处理的空间范围相对较大。
废气uv光氧催化设备进行有机废气处理的光解氧化机理包括两个过程：一是在产生高能离子群体的过程中，一定数量的有害气体分子受高能作用，本身分解成单质或转化为无害物质。二是含有大量高能粒子和高活性的自由基的离子群体，与大分子气体（如苯、甲苯等）作用，打开了其分子内部的化学键，转化为无害的小分子物质。而且不会更多的对设备和环境造成不利影响。
废气uv光氧催化设备是一款中小型有机废气处理设备，通过较为成熟的光氧催化技术来实现对有机废气的净化处理，目前UV光氧催化设备被广泛应用在食品、医药、化工、污水、垃圾、塑胶、喷涂、造纸、轮胎等行业有机废气处理。光氧催化技术及光化学是目前研究较多的一项高级氧化技术。所谓光催化反应，就是在光的作用下进行的化学反应。光化学反应需要分子吸收特定波长的电磁辐射，受激产生分子激发态，然后发生化学反应生成新的物质。
废气uv光氧催化设备在有机废气处理中的应用还需要注意几个问题，首先是裂解时间是否足够1s，氧化反应的时间是否达到5-8s；其次提供的UV光子总功率不够或者含氧量不足，会因为裂解或氧化不完全而生成一些中间副产物，从而生成一些中间副产物，从而影响净化效率。对高分子的有机恶臭物质体现的较为明显；最后UV光氧催化设备的长期稳定、高效，需要反应温度低于60摄氏度，粉尘量小于100mg/m3，相对湿度低于97%。
UV光氧化废气净化装置原理介绍 ：
（1）UV光氧化废气净化装置采用高强度纳米紫外线破坏、分解大分子链为小分子链，再利用臭氧和羟基自由基氧化、催化剂进行催化氧化，使有机物变为水和二氧化碳，以达到去除有机物的目的。其处理原理示意图如下：
采用高强度纳米紫外线超强电磁辐射和穿透力、高强度纳米紫外线催化燃烧功能对废气进行高强度纳米紫外线辐射和破坏，使所有有机物废气的分子链完全打断，裂解、改变物质结构，将高分子污染物质，裂解、分解成为低分子无害物质，如水和二氧化碳等。
（2）三重催化氧化
采用特制高强度纳米紫外线光管在处理装置内产生C波段（185nm波段）紫外线，该波段高强度纳米紫外线对装置内废气中的水汽、氧气照射产生大量的羟基自由基,羟基自由基（OH）因其有极高的氧化电位（），其氧化能力极强，可与大多数有机污染物发生快速的链式反应，无选择性地将有害物质氧化成CO2、H2O或矿物盐，无二次污染。
该波段高强度纳米紫外线光束可分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡与氧分子结合，进而产生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧对有机物具有极强的氧化作用。臭氧对恶臭气体及其它刺激性异味亦有极强的清除效果，作为强氧化剂进行废气氧化, 裂解恶臭气体分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的。
催化剂涂层
UV光氧化废气净化装置内设有多道滤网，滤网上涂有27种催化剂涂层；催化涂层可增强高能C波段的强度，同时具有催化氧化的作用。 废气污染物为C、H、O化合物，通过UV光氧化废气净化装置破坏裂解、氧化分解、催化氧化可将有机废气转变为水及二氧化碳。 UV光氧化废气净化装置结构 UV光氧化废气净化装置工艺控制条件 湿度≤80%进风口流速≤12m3/s 装置内废气流速≤10m/s废气停留时间≥2s 温度：小于60度。
光催化氧化的特点:
（1）光催化氧化适合在常温下将废臭气体完全氧化成无毒无害的物质，适合处理高浓度、气量大、稳定性强的有毒有害气体的废气处理。
（2）有效净化彻底：
通过光催化氧化可直接将空气中的废臭气体完全氧化成无毒无害的物质，不留任何二次污染，
（3）绿色能源：
光催化氧化利用人工紫外线灯管产生的真空波紫外光作为能源来活化光催化剂，驱动氧化—还原反应，而且光催化剂在反应过程中并不消耗，利用空气中的氧作为氧化剂，有效地降解有毒有害废臭气体成为光催化节约能源的*大特点。
（4）氧化性强：
（5）广谱性：
光催化氧化对从烃到羧酸的种类众多有机物都有效，即使对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有很好的去除效果，只要经过一定时间的反应可达到完全净化。
（6）寿命长：在理论上，光催化剂的寿命是无限长的，无需更换.
缺点：这是一项尚未成熟的新技术，不能处理酸性气体，容易影响设备的使用寿命。且该技术尚处于实验室探索阶段，还不能达到很好的商用效果。因此其他的缺点还有待于发现。
- 产品
- 供应
- 公司
- 新闻
