POLOS 光谱测量仪器用于半导体设备 FR-Mic 系列
POLOS 系列
FR-Mic 370 nm - 1700 nm 光谱范围
实时光谱测量
薄膜厚度、光学特性、不均匀性测量、厚度映射
使用集成的 USB 连接高质量彩色相机进行成像
工作原理：
白光反射光谱 （WLRS） 测量在光谱范围内从薄膜或多层堆栈反射的光量，入射光垂直于（垂直）样品表面。
由各个界面的干扰产生的测量反射光谱被用于确定自立式和支撑（在透明或部分/全反射基材上）薄膜堆栈的厚度、光学常数（n & k）等。
品牌POLOS 系列
产品编号FR-麦克风-370-1700
大小FR-Mic 麦克风
材料台式系统
厚度范围15 nm 至 150 μm
光谱范围370 纳米 - 1700 纳米
光源 MTBF卤素灯（内部），3000 小时（不包括在内！
FR-Mic 是用于快速&准确的涂层表征应用的模块化光学柱，这些应用需要小至几微米的光斑尺寸，典型的例子包括（但不限于）：微图案表面，粗糙表面和许多其他。它可以与专用的计算机控制的XY舞台结合使用，从而可以快速、轻松且准确地自动映射样品的厚度和光学属性。
FR-Mic 提供：
实时光谱测量
薄膜厚度、光学特性、不均匀性测量、厚度映射
使用集成的 USB 连接高质量彩色相机进行成像
使用 FR-Mic，只需单击一下，即可在 UV / VIS / NIR 光谱范围内的任何光谱范围内对薄膜厚度、光学常数、反射率、透射率和吸光度进行局部测量。
当需要表征大表面时，FR-Mic 可以安装在 FR-pRo 上，也可以安装在 FR-pRo 旁边。
应用：
大学和研究实验室
半导体（氧化物、氮化物、硅、光刻胶等）
FR-pRo 由用户选择的模块组装而成。核心单元可容纳光源、光谱仪（适用于200 nm - 2500 nm范围内的任何光谱范围）以及控制和通信电子设备。然后，有各种各样的配件，例如：
用于吸光度/透射率和化学浓度测量的胶片/比色皿支架
用于涂层表征的 Film Thickness 套件
用于在受控温度或液体环境中进行测量的热敏或液体套件
用于漫反射和总反射的积分球
通过不同模块的组合，最终设置满足任何最终用户的需求。
FR-pRo 系列
用于涂层表征的模块化和可扩展平台
广泛应用于半导体、大学和研究实验室、生命科学等领域
品牌POLOS 系列
产品编号FR-pRo 系列
材料台式系统
厚度范围1 nm 至 120 μm
光谱范围190 纳米 - 1100 纳米
光源 MTBF桌面系统
光谱范围
190 纳米 - 1000 纳米
190 纳米 - 1100 纳米
190 纳米 - 1700 纳米
200 纳米 - 1000 纳米
200 纳米 - 1020 纳米
200 纳米 - 1100 纳米
200 纳米 - 1700 纳米
200 纳米 - 850 纳米
370纳米 - 1020 纳米
370 纳米 - 1020 纳米
370 纳米 - 1700 纳米
380 纳米 - 1000 纳米
380 纳米 - 1020 纳米
850 纳米- 1050 纳米
900 纳米- 1700 纳米
900 纳米 - 1050 纳米
900 纳米 - 1700 纳米
POLOS 光谱测量仪器用于半导体设备 FR-Mic 系列
