一、CVD真空管式炉概述
真空管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。主要用于粉体、电子、陶瓷等其它产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等
二、CVD真空管式炉特点
1、炉膛材料采用进口陶瓷纤维，呈现温场均衡、表面温度低、升温速率快、节能等优点；
2、电热元件采用进口高电阻合金丝，表面负荷高，发热速度快；
3、炉体两端采用不锈钢密封法兰，耐高温、耐腐蚀；
4、保护管采用高纯石英管 ，气管采用密封快接插头，安装方便；
5、炉体采用双层空气隔热技术，配有自动冷却风扇，降低炉体外壳温度；
6、控制系统采用进口40段程序控温，控温精度±1℃，移相触发、可控硅控制；
三、CVD真空管式炉参数
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项 目 |
指 标 值 |
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额定功率 |
4KW |
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额定电压 |
AC220V 50/60Hz |
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最高温度 |
1600℃ |
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额定温度 |
1500℃ |
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升温速率 |
≤10 ℃/min |
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炉管尺寸 |
Dia 80 X 1000 mm |
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控温精度 |
±1℃ |
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控温方式 |
32段程序 PID程序控温 （日本进口） |
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热电偶型号 |
B型 |
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加热元件 |
硅钼棒 |
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炉管材料 |
99刚玉 |
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重量 |
约120 Kg |
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炉膛材料 |
氧化铝多晶体纤维 氧化铝含量95% （真空成型） 美国进口 |
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炉壳表面温度 |
≤35 ℃ |
注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！
