主要用途:高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片,也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
详细参数 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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以上数据仅供参考,炉膛尺寸可根据客户要求定制,外形尺寸如有更改,恕不另行通知! |
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主要用途:高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片,也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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以上数据仅供参考,炉膛尺寸可根据客户要求定制,外形尺寸如有更改,恕不另行通知! |