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伯东企业(上海)有限公司

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 KRI 考夫曼射频离子源用于碳化硅微纳结构表面刻蚀

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 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220用于 ZAO 透明导电薄膜及性能研究试验

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 KRI 射频离子源 RFICP 380 和 分子泵组用于溅射沉积 Cu 薄膜

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 KRI 离子源用于离子束溅射镀制 Ge 纳米薄膜的研究

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 伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2O5薄膜

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 伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 辅助离子束溅射镀制 SiO_2薄膜

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 KRI  聚焦射频离子源 RFICP 220 辅助磁控溅射镀制 3D 玻璃膜

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 伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 辅助镀制 HfO2 薄膜

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 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 持续轰击 TiN 薄膜获得更优秀性能

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