KRI 射频离子源成功用于辅助制备 MoS2 自润滑涂层
伯东 KRI 离子源辅助蒸发沉积镀铝膜, 改善铝膜结构及耐腐蚀性
镀膜制品掉膜的主要原因是…
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 成功用于辅助蒸镀 TiO_2薄膜
伯东 KRI 射频离子源和分子泵组用于氧化物溅射镀膜设备
KRI 射频离子源在光学加工中具有高的去除率和好的稳定性
上海伯东美国 KRI 线性霍尔离子源 eH Linear
上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 eH 400
上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 eH 1000
美国 KRI 离子源用于辅助沉积非晶硅红外光学薄膜
上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 10
上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40
上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 75
上海伯东代理美国 KRI 射频离子源 RFICP 40
上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 100
上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 140
美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高性能红外增透膜
KRI 霍尔离子源辅助制备碳化硅改性薄膜
HVA 真空阀门(真空闸阀)成功用于激光真空系统
HVA 真空隔离闸阀 16000 系列