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伯东企业(上海)有限公司

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 KRI 射频离子源成功用于辅助制备 MoS2 自润滑涂层

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 伯东 KRI 离子源辅助蒸发沉积镀铝膜, 改善铝膜结构及耐腐蚀性

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 镀膜制品掉膜的主要原因是…

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 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 成功用于辅助蒸镀 TiO_2薄膜

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 伯东 KRI 射频离子源和分子泵组用于氧化物溅射镀膜设备

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 KRI 射频离子源在光学加工中具有高的去除率和好的稳定性

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 上海伯东美国 KRI 线性霍尔离子源 eH Linear

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 上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 eH 400

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 上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 eH 1000

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 美国 KRI 离子源用于辅助沉积非晶硅红外光学薄膜

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 上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 10

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 上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40

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 上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 75

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 上海伯东代理美国 KRI 射频离子源 RFICP 40

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 上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 100

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 上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 140

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 美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高性能红外增透膜

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 KRI 霍尔离子源辅助制备碳化硅改性薄膜

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 HVA 真空阀门(真空闸阀)成功用于激光真空系统

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 HVA 真空隔离闸阀 16000 系列

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