设备尺寸：
设备名称 OTFC-1550CBI/DBI
真空室 SUS304, φ1550mm×1800mm (H)
工件架 φ1400mm
工件架转速 10rpm to 30rpm(可变)
光学膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光学膜厚监控仪
波长范围：350nm to 1100nm
反射式/透射式
水晶式膜厚计 XTC/3+6点式水晶传感器
蒸发源 电子枪2套
离子源 17cmRF离子源
机械性能：
排气系统 机械泵+2个扩散泵+Polycold（或2个冷凝泵）
达到压力 7.0×10-5 Pa 以下
排气时间 15分（大气压～1.3×10-3 Pa)
基板温度 ：350℃
工作条件：
设备尺寸 约5500mm(W)×7200mm(D)×3700mm(H)
电源 3相,200v,50/60Hz, 约120KVA
水流量 180升/分以上
空气压力 0.5MPa以上
重量 约10000kg
适用于L ED用光学薄膜、ITO膜、 反射防止膜、超多层薄膜等各种光学薄膜形成装置
