※产品描述：
CNT公司生产的CVD设备主要由全真空专用不锈钢腔体，分子泵高真空系统，电源，生长机体载体及温控系统，独立排气和生长压力调节系统，冷却循环水辅助设备等组成。整机结构紧凑、操作方便、抽真空速度快。此设备控制系统采用逻辑按钮手动控制与工控机自控控制可选。实现真空抽气和镀膜工艺一体化功能。此设备可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介电、半导体及金属膜等。
※技术指标：
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参 数 名 称 |
单 位 |
配置 |
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沉积类型 |
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碳化硅，氮化硅 |
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电 源 |
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射频电源，带正向功率和反射功率计指示，带匹配器 |
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加热系统 |
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平板式双反应室系统，带加温和匀气系统 |
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工 作 温 度 |
℃ |
1300~1800℃ |
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基片台尺寸 |
(φ×H)mm |
1英寸、二英寸、三英寸、四英寸 |
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基片台转速 |
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转速0-20RPM |
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控 温 精 度 |
℃ |
±1 |
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极限真空 |
pa |
6.67.0×10-5 |
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密封系统 |
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磁流体密封 |
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水冷、气路系统 |
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冷却水循环机、无噪声气泵 |
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报警及保护 |
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对缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警及相应保护措施 |
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真空系统
（选 配） |
真空系列 |
单级机械泵、扩散泵机组、分子泵 |
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工作腔体 |
不锈钢 | |
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气氛系统 |
浮子流量计、进口、国产质量流量计 | |
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记录装置 |
进口、国产无纸记录仪 | |
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备注：西尼特可根据阁下要求提供各种非标产品的设计制造，欢迎来函、来电咨询！
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